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Comunicado de prensa de Business Wire: JSR Corporation

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JSR Corporation anunció hoy su acuerdo de desarrollo conjunto con SK hynix Inc. para aplicar Inpria, una resistencia de óxido de metal (MOR) con litografía ultravioleta extrema (EUV) de una empresa de JSR para la fabricación de chips DRAM avanzados. La plataforma de fotorresistores de óxido de metal para la EUV con amplia patente de Inpria permite a los clientes diseñar una arquitectura avanzada de dispositivos de nodos de manera eficiente.








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